【交易观点】
　　英伟达(NVDA.O)进军光刻新技术，助力光刻机提速
　　事件：英伟达宣布了新的用于光刻机的软件技术cuLitho，将使用英伟达的芯片来加速基于软件的芯片设计与用于在硅片上印刷该设计的光刻掩模的物理制造之间的步骤。传统的计算芯片两周才能完成，但英伟达的芯片和软件同时使用可以将时间缩短至一天以内，并将使用的电力从35兆瓦减少到5兆瓦。
　　我们的观点：新技术有利于代工厂针对高端制程降本增效，提高利润空间。公开数据显示，利用英伟达的H100 GPU芯片，可以让台积电(TSM.N）的计算光刻速度，提升40倍，从而提高生产效率，降低成本，提升产能，对先进工艺(2nm、1nm)影响巨大。英伟达CEO黄仁勋预计，台积电(TSM.N)将于6月开始准备生产该技术。高端制程的芯片本身ASP就不低，加上高算力、低能耗的GPU进一步降低成本，单片利润空间进一步提高，利好生产高端制程产品半导体代工相关企业，建议重点关注英伟达（NVDA.O），台积电（TSM.N），新思科技（SNPS.O），阿斯麦（ASML.O）。