盛美上海进军前道涂胶显影Track市场。根据盛美上海官方微信公众号，盛美上海首台具有自主知识产权的前道ArF工艺涂胶显影Track设备Ultra LITH成功出机，顺利向中国国内客户交付，该设备由盛美半导体设备(亚太)制造中心完成出货。
　　涂胶显影技术是光刻工序的重要环节之一。光刻工序涂胶显影设备是集成电路制造过程中不可或缺的关键处理设备，主要与光刻机配合进行作业，通过机械手使晶圆在各系统间传输和处理，从而完成晶圆的光刻胶涂覆、固化、显影、坚膜等工艺过程。涂胶/显影机的性能直接影响着曝光图案、刻蚀、离子注入等工艺。
　　盛美上海将于2023年推出i-line型号设备，且已开始着手研发KrF型号设备。参考芯源微公告、中国国际招标网，涂胶显影设备可分为offline和inline两大类，其中offline设备不与光刻机联机作业，主要包括前道Barc（抗反射层）涂胶机、PI涂胶显影机；inline设备与光刻机联机作业，根据主流光刻技术发展路线可分为I-line、KrF、ArF、ArFi、EUV等光刻胶的涂胶显影工艺。从盛美的产品规划看，未来将至少覆盖I-line、KrF、ArF三种以上的涂胶显影工艺。
　　前道涂胶显影占WFE市场的4%。根据中微业绩说明会资料，2021年全球前道涂胶显影设备市场规模36.72亿美元，在全球WFE市场占比4.0%。参考SEMI数据2021年中国大陆半导体设备市场占全球半导体设备的29%，中国大陆涂胶显影Track设备市场规模约10.65亿美元。
　　国内外涂胶显影Track市场主要被TEL垄断。根据芯源微公告，光刻工序涂胶显影设备的供应商主要包括日本TEL、日本DNS、德国SUSS、中国台湾ELS、韩国CND等。根据TEL公告，2021年TEL在全球涂胶显影市场的市占率为89%。根据中国国际招标网，按采购数量计，中国大陆本土产线的12英寸涂胶显影设备当中日本TEL占96%、芯源微占3.5%、日本DNS占0.7%。TELLITHIUS系列是目前主流的涂胶显影Track设备。
　　芯源微主导涂胶显影Track设备的国产化，盛美上海、众鸿电子紧随其后。根据芯源微2022年中报，芯源微offline、I-line、KrF机台均实现批量销售，前道涂胶显影机新订单同比大幅增长，其中I-line、KrF涂胶显影机获多家头部晶圆厂的小批量重复订单，芯源微客户包括中芯京城、上海华力、长江存储、合肥长鑫、武汉新芯、士兰集科、上海积塔、株洲中车、青岛芯恩、中芯绍兴、中芯宁波、昆明京东方等。2022年12月17日，芯源微发布新产品ArFi高产能涂胶显影机，可全面覆盖I-line、KrF、ArF dry、ArF浸没式等多种光刻技术。根据盛美上海官方微信公众号，盛美上海已向中国国内客户交付首台前道ArF工艺涂胶显影Track设备，并将于2023年推出i-line型号设备，且已开始着手研发KrF型号设备。根据众鸿官方微信公众号，2022年12月众鸿电子接到常州承芯半导体的涂胶显影机正式订单。
　　产能致胜，盛美上海涂胶显影Track设将达到300片/h。盛美此次出机的Track设备专为300毫米晶圆而设计，共有4个适用于12英寸晶圆的装载口，8个涂胶腔体、8个显影腔体，设备腔体温度可精准控制在23°C±0.1°C，烘烤范围为50°C至250°C，晶圆破损率低于1/50000。全球专利申请保护的全新结构设计还可拓展支持12个涂胶腔体及12个显影腔体，产能可达300片/h，在配备更多涂胶和显影腔体的条件下还能达到400片/h以上。
　　盛美上海已构建PECVD+涂胶显影+炉管（ALD、LPCVD等）+铜电镀+清洗等五大类产品平台。根据控股股东（ACMResearch）公司资料，新产品PECVD、Track推出后，盛美可覆盖目标市场规模从原有的80亿美元，增加至160亿美元。盛美持续的新产品研发打开公司长期成长空间。
　　风险分析：芯片行业外部环境不确定性风险，技术迭代风险。
　　
　　

研究报告全文：2023年1月2日行业研究盛美进军前道涂胶显影设备产品平台化再前进一步半导体设备行业跟踪要点机械行业盛美上海进军前道涂胶显影Track市场根据盛美上海官方微信公众号盛美买入维持上海首台具有自主知识产权的前道ArF工艺涂胶显影Track设备UltraLITH成功出机顺利向中国国内客户交付该设备由盛美半导体设备亚太制造中心完作者成出货分析师杨绍辉涂胶显影技术是光刻工序的重要环节之一光刻工序涂胶显影设备是集成电路制执业证书编号S0930522060001造过程中不可或缺的关键处理设备主要与光刻机配合进行作业通过机械手使021-52523860晶圆在各系统间传输和处理从而完成晶圆的光刻胶涂覆固化显影坚膜等Yangshaohui1ebscncom工艺过程涂胶显影机的性能直接影响着曝光图案刻蚀离子注入等工艺盛美上海将于2023年推出i-line型号设备且已开始着手研发KrF型号设备行业与沪深300指数对比图参考芯源微公告中国国际招标网涂胶显影设备可分为offline和inline两大10类其中offline设备不与光刻机联机作业主要包括前道Barc抗反射层涂-2胶机PI涂胶显影机inline设备与光刻机联机作业根据主流光刻技术发展路线可分为I-lineKrFArFArFiEUV等光刻胶的涂胶显影工艺从盛美的产-13品规划看未来将至少覆盖I-lineKrFArF三种以上的涂胶显影工艺-25前道涂胶显影占WFE市场的4根据中微业绩说明会资料2021年全球前道-37涂胶显影设备市场规模3672亿美元在全球WFE市场占比40参考SEMI1221032206220922数据2021年中国大陆半导体设备市场占全球半导体设备的29中国大陆涂胶机械行业沪深300显影Track设备市场规模约1065亿美元资料来源Wind国内外涂胶显影Track市场主要被TEL垄断根据芯源微公告光刻工序涂胶显影设备的供应商主要包括日本TEL日本DNS德国SUSS中国台湾ELS相关研报韩国CND等根据TEL公告2021年TEL在全球涂胶显影市场的市占率为89一明一暗检缺陷相辅相成提良率根据中国国际招标网按采购数量计中国大陆本土产线的12英寸涂胶显影设半导体设备研究系列之明暗场缺陷检测设备备当中日本TEL占96芯源微占35日本DNS占07TELLITHIUS2022-12-10半导体行业景气度回升先进制程工艺提升带动系列是目前主流的涂胶显影Track设备设备环节量价齐升机械行业周报2022年第芯源微主导涂胶显影Track设备的国产化盛美上海众鸿电子紧随其后根48周1120-11262022-11-29据芯源微2022年中报芯源微offlineI-lineKrF机台均实现批量销售前量测设备空间大格局好上海精测中科飞测等道涂胶显影机新订单同比大幅增长其中I-lineKrF涂胶显影机获多家头部晶国产品牌蓄势待发半导体量测设备行业跟踪2022-11-24圆厂的小批量重复订单芯源微客户包括中芯京城上海华力长江存储合肥长鑫武汉新芯士兰集科上海积塔株洲中车青岛芯恩中芯绍兴中芯宁波昆明京东方等2022年12月17日芯源微发布新产品ArFi高产能涂胶显影机可全面覆盖I-lineKrFArFdryArF浸没式等多种光刻技术根据盛美上海官方微信公众号盛美上海已向中国国内客户交付首台前道ArF工艺涂胶显影Track设备并将于2023年推出i-line型号设备且已开始着手研发KrF型号设备根据众鸿官方微信公众号2022年12月众鸿电子接到常州承芯半导体的涂胶显影机正式订单产能致胜盛美上海涂胶显影Track设将达到300片h盛美此次出机的Track设备专为300毫米晶圆而设计共有4个适用于12英寸晶圆的装载口8个涂胶腔体8个显影腔体设备腔体温度可精准控制在23C01C烘烤范围为50C至250C晶圆破损率低于150000全球专利申请保护的全新结构设计还可拓展支持12个涂胶腔体及12个显影腔体产能可达300片h在配备更多涂胶和显影腔体的条件下还能达到400片h以上盛美上海已构建PECVD涂胶显影炉管ALDLPCVD等铜电镀清洗等五大类产品平台根据控股股东ACMResearch公司资料新产品PECVDTrack推出后盛美可覆盖目标市场规模从原有的80亿美元增加至160亿美元盛美持续的新产品研发打开公司长期成长空间风险分析芯片行业外部环境不确定性风险技术迭代风险敬请参阅最后一页特别声明-1-证券研究报告行业及公司评级体系评级说明行买入未来6-12个月的投资收益率领先市场基准指数15以上业增持未来6-12个月的投资收益率领先市场基准指数5至15及公中性未来6-12个月的投资收益率与市场基准指数的变动幅度相差-5至5司减持未来6-12个月的投资收益率落后市场基准指数5至15评卖出未来6-12个月的投资收益率落后市场基准指数15以上级无评级因无法获取必要的资料或者公司面临无法预见结果的重大不确定性事件或者其他原因致使无法给出明确的投资评级A股主板基准为沪深300指数中小盘基准为中小板指创业板基准为创业板指新三板基准为新三板指数港股基准指数为恒生基准指数说明指数分析估值方法的局限性说明本报告所包含的分析基于各种假设不同假设可能导致分析结果出现重大不同本报告采用的各种估值方法及模型均有其局限性估值结果不保证所涉及证券能够在该价格交易分析师声明本报告署名分析师具有中国证券业协会授予的证券投资咨询执业资格并注册为证券分析师以勤勉的职业态度专业审慎的研究方法使用合法合规的信息独立客观地出具本报告并对本报告的内容和观点负责负责准备以及撰写本报告的所有研究人员在此保证本研究报告中任何关于发行商或证券所发表的观点均如实反映研究人员的个人观点研究人员获取报酬的评判因素包括研究的质量和准确性客户反馈竞争性因素以及光大证券股份有限公司的整体收益所有研究人员保证他们报酬的任何一部分不曾与不与也将不会与本报告中具体的推荐意见或观点有直接或间接的联系法律主体声明本报告由光大证券股份有限公司制作光大证券股份有限公司具有中国证监会许可的证券投资咨询业务资格负责本报告在中华人民共和国境内仅为本报告目的不包括港澳台的分销本报告署名分析师所持中国证券业协会授予的证券投资咨询执业资格编号已披露在报告首页中国光大证券国际有限公司和EverbrightSecuritiesUKCompanyLimited是光大证券股份有限公司的关联机构特别声明光大证券股份有限公司以下简称本公司创建于1996年系由中国光大集团总公司投资控股的全国性综合类股份制证券公司是中国证监会批准的首批三家创新试点公司之一根据中国证监会核发的经营证券期货业务许可本公司的经营范围包括证券投资咨询业务本公司经营范围证券经纪证券投资咨询与证券交易证券投资活动有关的财务顾问证券承销与保荐证券自营为期货公司提供中间介绍业务证券投资基金代销融资融券业务中国证监会批准的其他业务此外本公司还通过全资或控股子公司开展资产管理直接投资期货基金管理以及香港证券业务本报告由光大证券股份有限公司研究所以下简称光大证券研究所编写以合法获得的我们相信为可靠准确完整的信息为基础但不保证我们所获得的原始信息以及报告所载信息之准确性和完整性光大证券研究所可能将不时补充修订或更新有关信息但不保证及时发布该等更新本报告中的资料意见预测均反映报告初次发布时光大证券研究所的判断可能需随时进行调整且不予通知在任何情况下本报告中的信息或所表述的意见并不构成对任何人的投资建议客户应自主作出投资决策并自行承担投资风险本报告中的信息或所表述的意见并未考虑到个别投资者的具体投资目的财务状况以及特定需求投资者应当充分考虑自身特定状况并完整理解和使用本报告内容不应视本报告为做出投资决策的唯一因素对依据或者使用本报告所造成的一切后果本公司及作者均不承担任何法律责任不同时期本公司可能会撰写并发布与本报告所载信息建议及预测不一致的报告本公司的销售人员交易人员和其他专业人员可能会向客户提供与本报告中观点不同的口头或书面评论或交易策略本公司的资产管理子公司自营部门以及其他投资业务板块可能会独立做出与本报告的意见或建议不相一致的投资决策本公司提醒投资者注意并理解投资证券及投资产品存在的风险在做出投资决策前建议投资者务必向专业人士咨询并谨慎抉择在法律允许的情况下本公司及其附属机构可能持有报告中提及的公司所发行证券的头寸并进行交易也可能为这些公司提供或正在争取提供投资银行财务顾问或金融产品等相关服务投资者应当充分考虑本公司及本公司附属机构就报告内容可能存在的利益冲突勿将本报告作为投资决策的唯一信赖依据本报告根据中华人民共和国法律在中华人民共和国境内分发仅向特定客户传送本报告的版权仅归本公司所有未经书面许可任何机构和个人不得以任何形式任何目的进行翻版复制转载刊登发表篡改或引用如因侵权行为给本公司造成任何直接或间接的损失本公司保留追究一切法律责任的权利所有本报告中使用的商标服务标记及标记均为本公司的商标服务标记及标记光大证券股份有限公司版权所有保留一切权利光大证券研究所上海北京深圳静安区南京西路1266号西城区武定侯街2号福田区深南大道6011号恒隆广场1期办公楼48层泰康国际大厦7层NEO绿景纪元大厦A座17楼光大证券股份有限公司关联机构香港英国中国光大证券国际有限公司EverbrightSecuritiesUKCompanyLimited香港铜锣湾希慎道33号利园一期28楼64CannonStreetLondonUnitedKingdomEC4N6AE敬请参阅最后一页特别声明-2-证券研究报告