>> 财通证券-建筑装饰行业洁净室专题(一):海外半导体资本开支梳理-260725
| 上传日期: |
2026/7/27 |
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pdf 共21页 |
来源: |
财通证券 |
| 评级: |
看好 |
作者: |
王涛 |
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核心观点 AI带动需求持续释放,洁净室作为半导体制造的核心环节有望进入放量阶段。随着AI训练及推理需求持续增长,先进逻辑芯片、HBM及先进封装等环节扩产需求逐步释放,全球半导体资本开支进入新一轮上行周期。据我们测算统计,从全球主要半导体企业的资本开支情况来看,晶圆代工、IDM、封装测试和存储主要企业2026E资本开支合计约1,894.8亿美元,同比增长28.8%,资本开支提速趋势进一步强化。在相对中性的假设下,我们预计2026-2028年洁净室建设产值分别约为207、252、305亿美元,分别同比+6%、+22%、+21%,我们判断2026-2028年洁净室建设需求有望进入集中放量阶段。 AI算力需求驱动资本开支重回上行通道,26年进入资本开支爆发期。随着AI训练及推理需求持续增长,先进逻辑芯片、HBM及先进封装等环节扩产需求逐步释放,全球半导体资本开支进入新一轮上行周期。从全球主要半导体企业的资本开支情况来看,晶圆代工、IDM、封装测试和存储主要企业资本开支在2023—2024年连续调整后,于2025年回升至1470.8亿美元,同比增长14.5%;2021—2025年资本开支CAGR约为5.6%。在此基础上,样本企业2026E资本开支合计约1894.8亿美元,同比增长28.8%,资本开支提速趋势进一步强化。 重点项目建设在2026—2028年密集重叠,洁净室工程有望率先兑现。据我们统计,台积电在中国台湾、美国、日本和德国的多期晶圆厂,美光在美国、日本和新加坡的存储项目,以及三星、SK海力士在韩国的基地建设均于2025—2028年密集推进,前期持续上修的资本开支正逐步转化为土建、厂务、洁净室及机电工程需求。考虑到洁净室建设通常位于厂房土建之后、设备搬入和量产爬坡之前,我们判断2026—2028年洁净室建设有望进入集中放量阶段。2029年以后项目逐步由在建厂期向远期规划厂期切换,后续需求强度将更多取决于规划项目落地及新增资本开支接续情况。 具备核心客户绑定、海外交付经验和高端洁净室项目业绩的企业有望优先受益。亚翔集成依托台系客户与海外高毛利订单具备较强的业绩弹性;圣晖集成有望受益东南亚成熟制程供给补位带来的景气度;柏诚股份卡位内资高端半导体与“两存”项目,且2026年以来订单弹性突出;深桑达A具备规模、资质与客户优势;太极实业子公司海太半导体为SK海力士提供DRAM后工序服务,有望形成第二业务曲线;华康洁净积极向电子洁净领域拓展,结构优化带来“量+质”双提升的可见性;美埃科技系洁净室FFU/过滤设备龙头,区域上从国内延展至北美+东南亚,国产替代亦具备较大空间。 风险提示:宏观经济波动风险,半导体行业投产不及预期,测算差异风险。
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