事件：5月23日，日本公布《根据出口贸易管理令附表一和外汇令附表的规定确定货物或技术的省令》（以下简称“省令”）修正版，明确将23个具体品类的尖端半导体制造设备列入出口管理限制对象名单，包括6大类、23项设备，具体包括3项清洗设备、11项薄膜沉积设备、1项退火设备、4项光刻/曝光设备、3项刻蚀设备以及1项量测设备，从类别上看，日本主要针对光刻、薄膜沉积、刻蚀、清洗设备进行出口限制管理。经过2个月公告期后，《省令》预计于7月23日施行。
　　点评：此次日本半导体设备出口管理限制的范围与3月31日的《省令》版本的限制范围一致，时间确定在2个月公示期后的7月23日。对中国而言，如若要进口上述23项半导体设备则需要事先获得许可。
　　（1）刻蚀：高深宽比刻蚀、双大马士革刻蚀、锗硅湿法/干法刻蚀。日本厂商主要是TEL，我国厂商主要是中微公司；
　　（2）金属沉积设备：Ti、TiN、碳化钨、钨沉积、钴钼钌沉积，日本厂商主要是TEL，国内潜力厂商是中微公司；
　　（3）湿法设备（清洗、电镀）：日本厂商主要是TEL、DNS等，国内厂商是盛美上海、芯源微、北方华创；
　　（4）退火设备：日本厂商主要是TEL、KE，国内厂商是盛美上海、北方华创、屹唐股份。
　　影响：21年日本半导体设备厂商收入在全球半导体设备市场中的份额合计约28%，仅次于美国半导体设备厂商的份额，日本厂商在涂胶显影、介质刻蚀、清洗设备、热处理设备、立式ALD、CD-SEM、EUV掩膜版缺陷检测、存储测试机、探针台、划片机、减薄机等10多个设备环节处重要的垄断地位，例如2021年TEL在涂胶显影设备领域的销售额在全球的份额为89%，在刻蚀领域的销售份额为29%，在清洗设备领域的销售份额为25%。
　　中国大陆市场是日本半导体设备厂商的重要收入来源之一，此次出口限制或将影响日本设备厂的销售额。2022年，日本半导体设备厂商来自中国大陆的收入占比普遍在20%~30%，其中东京电子来自中国大陆的收入占比为22%，爱德万为33%，DISCO为2/3。预计随着《省令》实施，这些企业在中国大陆的设备销售预计会受到较大负面影响。
　　该项限制时间落地后，中国的半导体设备国产化空间进一步打开，涂胶显影、刻蚀和清洗设备等日本企业市场份额较高的设备类别将迎来较好的国产化时间窗口，预计晶圆厂验证、国产设备导入的节奏有望加快。
　　针对此次限制范围，需要重点关注的设备类别，包括薄膜沉积、涂胶显影、清洗设备、刻蚀设备等，主要的相关标的包括：
　　（1）介质刻蚀：中微公司、北方华创；
　　（2）薄膜沉积：拓荆科技、微导纳米；
　　（3）涂胶显影：芯源微、盛美上海；
　　（4）清洗设备：盛美上海、芯源微、北方华创；
　　（5）热处理：盛美上海、北方华创；
　　（6）立式ALD：盛美上海、微导纳米；
　　（7）减薄设备：华海清科；
　　（8） CD-SEM：精测电子；
　　（9）探针台：长川科技；
　　（10）划片机：光力科技。
　　投资建议：随着日本出口管制落地，海外制裁靴子落地，国内半导体设备的国产化空间进一步打开，迎来较好的国产化时间窗口，预计晶圆厂验证、国产设备的导入节奏均会有所加快，看好国内半导体设备行业的高成长性。
　　建议关注：华海清科、中微公司、拓荆科技、芯源微、盛美上海、北方华创、微导纳米、精测电子、长川科技、光力科技。
　　风险分析：科技战压制估值的影响、市场竞争加剧的风险、晶圆厂资本开支进度不及预期