2023年营收稳步增长，公允价值变动损益等因素影响23年归母净利润
　　2023年公司预计实现营收62.6亿元（yoy+32.1%），归母净利预计17.00-18.50亿元（yoy+45.32%-58.15%）；23年非经常性损益约6.12亿元，同比+2.50-3.62亿元，主要系公司23年出售部分持有的拓荆科技股票，产生税后净收益约4.06亿元；扣非归母净利预计11.00-12.40亿元（yoy+19.64%-34.86%）。参考公司业绩预告中刻蚀设备订单/收入和非经常性损益的增加，我们预计公司2023-2025年归母净利润分别为17.6/20.2/26.0亿元，（前值15.1/19.9/25.6亿元）。可比公司24年Wind一致预期PE均值为40倍，考虑公司刻蚀设备订单饱满，LPCVD、ALD等新产品进展较快及国产替代空间广阔，给予公司24年45倍PE，目标价146.70元（前值161.70元），维持“增持”评级。
　　23年刻蚀设备收入同比持续增长，薄膜沉积业务设备产品开始进入市场
　　23年公司预计新增订单约83.6亿元，较22年新增订单63.2亿元增加约20.4亿元，同比+32.3%。1）刻蚀设备：23年预计收入约47.0亿元，同比+49.4%，23年预计新增订单约69.5亿元，同比+60.1%；2）MOCVD设备：23年预计收入约4.6亿元，同比-34.0%，23年预计新增订单约2.6亿元，受LED终端市场波动影响，同比-72.2%。2023年公司CCP和ICP刻蚀设备在国内主要客户芯片生产线上市场占有率不断提高并不断收到领先客户的批量订单；公司TSV硅通孔刻蚀设备越来越多应用在先进封装和MEMS器件生产。同时，公司深度布局薄膜沉积业务，已实现多种LPCVD设备的研发交付以及ALD设备的重大突破，目前已有四款设备产品进入市场，其中三款设备已获得客户认证，开始得到重复性订单。
　　半导体国产空间较大，24年公司多产品开始投入市场验证
　　随着美、日、荷对中国先进半导体制程的出口限制升温，设备国产化进度加速，具有技术优势的龙头设备公司有望持续受益。公司新开发的EPI设备、晶圆边缘Bevel刻蚀设备等多个新产品，将在近期投入市场验证；碳化硅功率器件、氮化镓功率器件、Micro-LED等器件所需MOCVD设备取得良好进展，2024年将逐步进入市场。同时，公司在南昌约14万平方米的生产和研发基地正式投入使用、上海临港约18万平方米的生产和研发基地部分生产厂房开始投入使用，助力公司销售快速增长。我们持续看好公司新型刻蚀技术研发和平台化布局，预计未来新产品得到市场验证后公司市占率有望进一步提升。
　　风险提示：半导体周期性波动，新产品研发不及预期，国外技术管制风险。