核心观点
　　2023Q3公司营收同比增长41.40%，环比上半年有所提升，结构上刻蚀设备收入高增，同比+63.53%，MOCVD设备受景气低迷影响，收入同比-25.02%；归母净利润同比-51.76%，主要系二级市场股价波动影响，公司非经常性损益亏损0.58亿元，同比减少1.80亿元，另外费用支出有所提升。展望后续，公司刻蚀设备产品力领先，工艺覆盖率不断提升，充分受益于先进制程扩产，并积极拓展薄膜沉积领域，未来订单表现值得期待。
　　事件
　　2023年前三季度，公司实现营业收入40.41亿元，同比增长32.80%，归母净利润11.60亿元，同比增长46.27%，扣非后归母净利润7.34亿元，同比增长13.94%。其中，Q3单季度实现营业收入15.15亿元，同比增长41.40%，归母净利润1.57亿元，同比下降51.76%。扣非后归母净利润2.15亿元，同比增长5.68%。
　　简评
　　Q3营收增速环比提升，非经亏损影响Q3利润
　　Q3营收增速环比提升，刻蚀设备实现高增、MOCVD下滑。公司前三季度实现营收40.41亿元，同比+32.80%。分业务来看，前三季度刻蚀设备收入28.70亿元，同比+43.40%，毛利率46.46%；MOCVD设备收入4.09亿元，同比+5.50%，毛利率36.29%。毛利率更高的刻蚀设备增长较好，MOCVD实现微增。单季度表现来看，Q3实现营收15.15亿元，同比+41.40%，增速相比上半年环比提升，其中刻蚀设备收入11.48亿元，同比+63.53%；MOCVD设备收入1.10亿元，同比-25.02%，刻蚀设备实现高增，MOCVD受行业景气低迷影响有所下滑。
　　毛利率维持稳定，非经常性损益亏损与费用增加影响Q3净利率。前三季度归母净利润11.60亿元，同比+46.27%，扣非净利润7.34亿元，同比+13.94%。盈利能力方面，毛利率、净利率、扣非后净利率分别为45.83%、28.67%、18.15%，同比分别+0.32pct、+2.66pct、-3.00pct。其中Q3单季度归母净利润1.57亿元，同比-51.76%，扣非后净利润2.15亿元，同比+5.68%，盈利能力方面，毛利率、净利率、扣非后净利率分别为45.74%、10.32%、14.18%同比-0.04pct、-20.00pct、-4.79pct。毛利率基本维持稳定，Q3净利率出现较大程度下滑，主要系：（1）二级市场股价波动影响，公司非经常性损益亏损0.58亿元，相比去年同期减少1.80亿元；（2）费用支出提升，Q3销售、管理、研发、财务费用率同比分别+0.13pct、+0.99pct、+0.00pct、+2.98pct。
　　预计公司订单维持较好水平，后续表现值得期待。截至2023Q3，公司存货40.91亿元，相比H1末增长7.52%；合同负债13.65亿元，相比H1末减少24.3%。我们认为合同负债环比下滑主要受收款节奏影响，公司订单维持较好水平，2023年底开始下游头部晶圆厂有望开启批量招标，公司订单将有显著环比改善。
　　核心产品刻蚀设备份额可期，薄膜沉积设备加速布局
　　刻蚀设备：CCP竞争力增强，ICP进展迅速，有望实现工艺全覆盖。公司CCP设备已对28 nm以上的绝大部分应用和28nm及以下的大部分应用形成较为全面的覆盖。逻辑领域，应用于28nm及以下的大马士革刻蚀工艺的SD-RIE进入客户验证阶段，存储领域，超高深宽比刻蚀机已在客户端验证出具有刻蚀≥60:1深宽比结构的能力。ICP方面，新产品推出后公司未来工艺覆盖率有望扩展到50%-70%，深硅刻蚀设备在晶圆级先进封装、2.5D封装和微机电系统芯片生产线等成熟市场继续获得重复订单。
　　薄膜沉积设备：发力CVD、ALD设备。公司首台CVD钨设备2022年底付运关键存储客户端验证评估，如期完成多道工艺验证，更多应用正在验证当中。另外，公司开发了新型号CVD钨和ALD钨设备，以实现更高深宽比结构的材料填充，已通过关键客户实验室测试，首台量产验证机已在客户端进行测试。ALD氮化钛设备也取得重大进展。
　　投资建议
　　预计公司2023-2025年实现归母净利润分别为14.63、18.29、24.75亿元，同比分别增长25.09%、24.97%、35.36%，对应PE分别为69.95x、55.97x、41.35x，维持“买入”评级。
　　风险分析
　　（1）下游扩产不及预期：公司客户包含国内外知名厂商，若下游投资、扩产意愿降低将影响公司产品销量。
　　（2）贸易摩擦加剧：中美等贸易摩擦加剧可能会对公司海外客户拓展产生不利影响。
　　（3）新产品研发不及预期：若新产品研发不及预期，则会对其后续收入产生负面影响。
　　（4）市场竞争持续加剧：公司竞争对手为国际知名半导体设备厂商与国内新进半导体设备公司，若公司无法有效应对市场竞争环境，则会面临行业地位下降等不利影响。