核心观点
　　公司三季度营收15.1亿元，同比增长41%，毛利润6.9亿元，同比增长41%，因股权投资产生公允价值变动损益和投资损益，扣非归母净利润同比增速较慢，增长6%至2.1亿元。至2023年9月底，公司累计已有3,819台等离子体刻蚀和化学薄膜反应台，国内、亚洲和欧洲的117条生产线，全面实现量产和大量重复性销售。
　　刻蚀设备有望受益于3DNAND国产化和行业回暖：刻蚀设备三季度收入同比增长64%至11.5亿元，公司的刻蚀设备在客户端不断核准更多刻蚀应用，市场占有率不断提高并不断收到领先客户的批量订单。截止2023年9月底，公司累计已交付超560台ICP反应台，公司的ICP设备具有很多差异化设计，并有双台机和单台机两种配置。3DNAND叠堆层数正从96/128层向200层以上发展，刻蚀设备须能加工极深孔或极深的沟槽，晶圆厂对刻蚀设备需求量上升。根据东京电子，刻蚀设备占FLASH芯片产线资本开支比例从2D的15%增长至3D的50%。中微公司的高深宽比刻蚀技术持续取得突破，有望受益于国内3DNAND厂的扩产和行业的回暖。
　　布局薄膜沉积、光学检测等设备市场：公司已布局化学薄膜和外延设备等薄膜设备，是除光刻机和刻蚀机外第三大设备市场，并通过投资睿励布局了第四大设备市场——光学检测设备。
　　 MOCVD业务长期空间巨大：MOCVD设备三季度收入同比下降25%至1.1亿元。市场机构预测Mini LED、Micro LED、功率器件等领域将拉动全球MOCVD设备年需求在2026年超过800台，中微预计可覆盖大约75%的MOCVD设备市场。
　　海外市场潜力大，重视零部件国产化：公司在海外市场有多个客户布局，在积极配合客户的扩产计划。公司持续加大核心零部件项目的国产化力度，培养国内零部件供应商，开发关键零部件的国产供应商。
　　盈利预测与投资建议
　　我们预测公司23-25年归母净利润分别为15.8、19.9、25.1亿元（原23-25年预测分别为15.1/19.9/25.5亿元，主要略调整刻蚀设备、MOCVD的营收，上调了23E非经常性损益），采用绝对估值法（FCFF），给予214.03元目标价，维持买入评级。
　　风险提示
　　刻蚀设备国产化不及预期；MiniLED需求不及预期；政府补助下滑风险；零部件断供风险。