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>> 申万宏源-盛美上海(688082)主力产品加速放量,新产品研发硕果累累-230407
上传日期:   2023/4/7 大小:   940KB
格式:   pdf  共3页 来源:   申万宏源
评级:   买入(上调) 作者:   刘建伟,王珂,李蕾
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事件:
  2月24日,公司披露2022年年报,全年营收28.73亿元,同比增长77.25%,归母净利润6.68亿元,同比增长151.08%,扣非后归母净利润6.90亿元,同比增长254.27%,业绩表现超过我们的预期。
   3月28日,公司宣布首次获得Ultra CSiC碳化硅衬底清洗设备的采购订单。该订单来自中国领先的碳化硅衬底制造商,预计将在2023年三季度末发货。
  投资要点:
  22年业绩超预期,主力产品加速放量。2022年半导体清洗设备收入20.78亿元,同比增长96.85%,其他半导体设备(电镀、立式炉管、无应力抛铜等设备)收入5.18亿元,同比增长89.19%,先进封装湿法设备收入1.60亿元,同比下降26.57%。
  坚持平台化、差异化、原始创新研发模式,产品版图不断扩大。22年公司在新产品方面硕果累累。1)立式炉管设备:推出ALD(热原子层沉积)立式炉Ultra FnA,满足高产能批式ALD工艺的高端要求。2)涂胶显影Track设备:推出前道涂胶显影Ultra LithTMTrack设备,支持主流光刻机接口,支持包括i-line、KrF和ArF系统在内的各种光刻工艺。3)PECVD设备:推出Ultra PmaxTMPECVD设备,标志着公司在前道半导体应用中进一步扩展到全新的干法工艺领域。4)先进封装用金属剥离湿法设备:为Ultra Cpr设备新添金属剥离工艺,以支持功率半导体制造和晶圆级封装(WLP)应用。5)新型化合物半导体系列湿法设备:公司推出了6/8寸化合物半导体湿法工艺产品线。6)硅材料衬底制造湿法设备:推出CMP后清洗设备用于高质量硅衬底及碳化硅衬底的制造。
  新产品收获订单,表明公司产品产业化能力强劲。公司Ultra CSiC碳化硅衬底清洗设备使用SC1(氨水/双氧水混合药液)、SC2(盐酸/双氧水混合药液)、DHF(稀氢氟酸)及其他化学进行清洗工艺,并可选配公司自主研发的Smart Megasonix技术进一步优化清洗效果。该设备兼容6英寸和8英寸,每小时可达70多片晶圆的产能,而且已进行了升级优化,可避免薄且易碎的碳化硅衬底的碎片。该产品获得国内客户订单,表明公司产品性能获得客户认可,同时也进一步印证公司研发策略贴近市场需求,能够解决客户痛点。
  上调23-24年盈利预测,新增25年盈利预测,由“增持”评级上调至“买入”评级。预计公司23-25年归母净利润分别为8.02、10.71、13.46亿元(原23-24年盈利预测为6.29/8.50亿元),当前股价对应PE分别为59X、44X、35X,考虑到下游国产化需求旺盛,公司业绩不断超预期,同时参考同行业可比公司中微公司、拓荆科技、芯源微估值,我们给予公司23年75倍PE,由“增持”评级上调至“买入”评级。
  风险提示:半导体行业周期风险;市场竞争加剧的风险;新产品拓展不及预期的风险等。
  
 
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