事件概述
　　公司发布2026年一季报。
　　刻蚀&薄膜设备持续放量，26Q1营收延续快速增长
　　2026Q1公司实现营收29.15亿元，同比+34.13%，延续较快的增长势头。1）刻蚀设备：我们推测仍为主要收入构成，公司针对先进逻辑和存储器件制造中关键刻蚀工艺的高端产品新增付运量显著提升，先进逻辑器件中段关键刻蚀工艺和先进存储超高深宽比刻蚀工艺实现量产。2）薄膜设备：收入快速放量，公司为先进存储/逻辑开发的LPCVD、ALD等多款设备顺利进入市场，覆盖率不断增加，新增付运量快速增长，成为业绩增长重要新引擎。展望后续，公司刻蚀设备继续升级满足更先进需求，薄膜设备覆盖率持续提升，看好收入体量持续快速增长。
　　期间费用率受益规模效应，26Q1业绩超预期
　　2026Q1公司实现归母净利润/扣非归母净利润为9.30/4.78亿元，同比+197.20%/+60.09%，环比大幅加速，超出市场预期。2026Q1公司净利率/扣非净利率分别为31.51%/16.38%，分别同比+17.32/+2.66pct，盈利水平大幅提升。具体来看，1）毛利端：2026Q1公司整体毛利率为39.89%，同比-1.64pct，推测毛利率下降主要系相关新品导入验证。2）费用端：2026Q1公司期间费用率为26.32%，同比-2.51pct，其中销售/管理/研发/财务费用率分别同比+0.20/-0.61/-3.37/+1.28pct，研发费用率下降主要系规模效应显现。2026Q1公司研发支出9.08亿元，同比+32.15%。3）26Q1非经损益4.53亿元，同比增加4.38亿元，主要系出售部分持有的拓荆科技股票，产生非流动资产处置损益4.67亿元，一定程度增厚公司利润。
　　刻蚀&薄膜设备等新品持续推进，平台化成长逻辑不断兑现
　　1）刻蚀：公司刻蚀设备可覆盖65nm到3nm及更先进工艺，满足95%以上刻蚀需求；CCP下一代90:1超高深宽比低温刻蚀设备正在验证，已全面覆盖存储刻蚀各类超高深宽比需求；ICP取得140:1的高深宽刻蚀结果和形貌控制能力，并付运到国内领先存储客户端认证。2）薄膜：公司在短时间内成功开发出十多种薄膜设备，包括LPCVD、ALD、EPI、PVDCuBS和PECVD等产品在先进存储和先进逻辑市场新增付运量保持快速增长，用于先进逻辑/先进存储件金属栅的ALD设备性能达到国际领先水平，开发的多款核心介质沉积设备均有序推进，客户验证进展良好；减压EPI在成熟制程验证成功，部分先进工艺进入量产验证；常压外延设备进入晶圆验证阶段。3）四款MOCVD新产品包括用于SiC和GaN功率器件的MOCVD，用于Micro LED的GaNMOCVD和用于红黄光LED的GaAs MOCVD设备已进入客户端验证阶段，并且部分得到批量订货。
　　投资建议
　　我们维持公司2026-2028年营收预测为159.14、211.50、273.08亿元，分别同比增长28.5%、32.9%、29.1%；归母净利润预测为29.42、43.77、56.83亿元，同比增长39.3%、48.7%、29.8%；对应EPS为4.69、6.98、9.07元。公司2026/4/27收盘价为352.01元，对应2026-2028年PE为75.01、50.42、38.83倍，维持“增持”评级。
　　风险提示
　　新品产业化进度不及预期、行业竞争格局恶化、收购杭州众硅后业务整合不及预期等