重点一：中微公司CCP及ICP刻蚀设备工艺已覆盖超过95%的刻蚀应用场景。
　　重点二：2025年LPCVD与ALD薄膜沉积设备订单金额同比增长59%。
　　重点三：重申“买入”评级，维持目标价380元，对应65倍2026年预期市盈率。
　　中微公司于2026年3月28日在上海召开全球供应商大会。公司目前持续加大在刻蚀、薄膜沉积及MOCVD等领域的投入，已有超过7,800个反应台在170多家客户实现量产。尽管持续较高的研发投入或对2026年利润率形成一定压力，但我们认为这将显著支撑公司中长期成长。同时，公司在LPCVD及其他设备领域的新增订单进展积极，亦显示其正逐步由单一设备厂商向平台型半导体设备供应商演进。
　　中微正在拓展核心刻蚀设备品类。从核心刻蚀设备看，中微公司在CCP领域已覆盖100%的成熟逻辑应用、94%的3DNAND应用及95%的DRAM应用；在ICP领域，公司已覆盖94%的成熟逻辑应用、100%的先进逻辑应用、100%的3DNAND应用以及98%的DRAM应用。综合CCP与ICP两大技术路线来看，公司目前已覆盖不同器件类型约300项刻蚀应用中的95%以上，显示其刻蚀平台的工艺覆盖度已处于较高水平，产品矩阵持续完善。
　　我们预计公司2026年仍将维持较高强度的研发投入。根据公司2025年业绩披露，在薄膜沉积业务板块中，LPCVD与ALD产品收入于2025年达到5.06亿元人民币，同比增长224.2%。公司表示，部分应用于存储及逻辑领域的LPCVD设备已于2025年上半年实现稳定量产，且未来5至6年内还计划进一步开发约40款薄膜设备型号。2025年公司研发投入达37.4亿元人民币，同比增长52.65%，占营业收入比重为30.23%。考虑到公司仍在持续推进产品开发、缩小与海外半导体设备厂商之间的技术差距，我们判断其2026年研发投入仍可能维持在较高水平。
　　我们重申对中微公司的“买入”评级，维持目标价380元人民币。我们的目标价基于65倍2026年预期市盈率，系由此前估值基准顺延所得，明显高于行业平均约42倍的估值水平，反映我们对公司2026至2027年收入及利润增长潜力更为乐观。我们认为，市场尚未充分计入公司在刻蚀工艺高覆盖率、薄膜设备放量以及平台化拓展方面的中长期成长空间。风险：下游需求弱于预期、美国进一步收紧对中国半导体产业的限制，以及半导体设备行业竞争加剧。