中微公司发布25H1业绩报告。公司25H1实现营收49.6亿元，同比+43.9%，实现归母净利润7.06亿元，同比+36.6%，实现扣非净利润为5.39亿元，同比+11.5%。单季度来看，25Q2实现营收27.9亿元，同比+51.3%，环比+28.25%，实现归母净利润为3.93亿元，同比+46.8%，环比+25.5%。其中25H1刻蚀设备收入37.8亿元，同比+40.1%，LPCVD设备收入1.99亿元，同比+608.2%。公司针对先进逻辑和存储器件制造中关键刻蚀工艺高端产品新增付运量显著提升，在先进逻辑器件和先进存储器件中多种关键刻蚀工艺实现大规模量产。
　　设备累计装机维持高速增长，多产品进展顺利。1）CCP刻蚀设备，PrimoHD-RIEe在25H1累计装机超过120个反应台，PrimoUD-RIE累计装机接近200个反应台。截至25H1，CCP刻蚀设备累计装机量超过4500个反应台，较2024年同期增长超过900个反应台。其中，双反应台刻蚀产品截至25H1累计装机突破了3300个反应台。单反应台产品截至2025年上半年累计装机接近1200个反应台。2）ICP刻蚀设备，公司设备在涵盖逻辑、DRAM、3DNAND、功率和电源管理、以及微电机系统等芯片和器件的50多个客户的生产线上大规模量产，并继续验证更多ICP刻蚀工艺。截至25H1，ICP刻蚀设备累计装机量超过1200个反应台，下一代ICP刻蚀设备Primo Nanova3G在实验室已经完成Alpha反应腔的搭建，正展开反应腔体表征，PrimoMenova？12寸金属刻蚀设备全球首台机顺利付运国内一家重要集成电路研发设计及制造服务商，开始现场验证。
　　持续加大研发投入，铸就技术高壁垒。2025年上半年公司研发投入约14.92亿元，同比增加5.21亿元（增长约53.70%），2025年上半年研发投入占公司营业收入比例约为30.07%，远高于科创板上市公司的平均研发投入水平（10%~15%）。2025年上半年研发费用11.16亿元，较去年增长约5.49亿元（同比增速约96.65%）。目前公司在研项目涵盖六大类，超过二十款新设备的开发。公司新产品研发速度显著加快（（过去通常需要三到五年开发一款新设备，现在只需两年或更短时间），未来公司有望更大规模地推出有竞争力的新设备，并顺利进入市场。目前公司的三十多种设备已经覆盖半导体高端设备的25%到30%。
　　把握产业整合趋势，外延内生加速提升设备品类覆盖度。中微公司未来5-10年计划通过外延收购和内生研发的方式，逐步覆盖半导体高端设备的50%到60%，打造平台型集团公司，公司未来将全面覆盖刻蚀、薄膜及量检测业务，对行业内的外延收并购机会保持积极且开放的态度。中微公司特点是扎实做产品，快速发展的同时保持高质量发展，成为刻蚀、薄膜及量检测设备的世界先进供应商。
　　盈利预测及投资建议：公司作为国内半导体刻蚀、薄膜设备龙头，近年来专注于加速设备平台化，拓展设备品类，除刻蚀、薄膜沉积等设备外，公司正全面布局量检测行业，包括光学检测和电子束检测设备，我们认为伴随公司研究成果持续高效转化，有望进一步支撑营收业绩增长，预计公司2025-2027年有望实现营收120.7/158.0/205.4亿元，有望实现归母净利润22.5/34.5/48.5亿元，维持“买入”评级。
　　风险提示：下游需求不及预期、地缘政治风险、产品进展不及预期。