>> 平安证券-中微公司(688012)持续研发投入,新品逐步起量-250419
| 上传日期: |
2025/4/20 |
大小: |
779KB |
| 格式: |
pdf 共4页 |
来源: |
平安证券 |
| 评级: |
推荐 |
作者: |
徐碧云,徐勇,陈福栋 |
| 下载权限: |
此报告为加密报告 |
|
|
事项: 公司公布2024年年报,2024年公司实现营收90.65亿元(44.73%YoY),归属上市公司股东净利润亿元16.16(-9.53%YoY)。公司拟向全体股东每10股派发现金红利3.00元(含税)。 平安观点: 持续研发投入,新品逐步起量:2024年公司实现营收90.65亿元(44.73%YoY),归属上市公司股东净利润亿元16.16(-9.53%YoY,主要系2023年公司出售了持有的部分拓荆科技股票,产生税后净收益约4.06亿元,而2024年公司并无该项股权处置收益,另外公司研发投入增加),扣非后归母净利13.88亿元(16.51%YoY)。2024年公司整体毛利率和净利率分别是41.06% ( -4.77pctYoY )和17.81%(-10.67pctYoY)。其中,2024年刻蚀设备销售约72.77亿元,同比增长约54.72%;MOCVD设备销售约3.79亿元,同比下降约18.03%;LPCVD设备2024年实现首台销售,全年设备销售约1.56亿元。费用端:2024年公司销售费用率、管理费用率和财务费用率分别为5.28%(-2.57pctYoY)、5.31%(-0.18pctYoY)和-0.96%(0.43pctYoY),公司费用率稳定。研发投入方面:公司继续保持较高的研发投入,与国内外一流客户保持紧密合作,相关设备产品研发进展顺利、客户端验证情况良好。2024年研发费用14.18亿元,较去年增长约6.01亿元,同比增长约73.59%。为扩充资产规模,公司产业化建设项目进展顺利。公司位于南昌的约14万平方米的生产和研发基地、在上海临港的约18万平方米的生产和研发基地已相继投入使用;上海临港滴水湖畔约10万平方米的总部大楼暨研发中心也在顺利建设;为确保今后十年有足够的厂房,并保障众多新产品研发和产能高速增长的需求,公司将在广州增城区及成都高新区建造新的生产和研发基地。 刻蚀类产品线不断丰富,国产替代稳步推进:1)CCP刻蚀设备:公司CCP刻蚀设备产品不断完善、丰富产品的性能,继续保持竞争优势,产品已广泛应用于国内外一线客户的集成电路加工制造生产线。2024年全年CCP刻蚀设备生产付运超过1200反应台,累计装机量超过4000反应台。公司已有的刻蚀产品已经对28纳米以上的绝大部分CCP刻蚀应用和28纳米及以下的大部分CCP刻蚀应用形成较为全面的覆盖。针对28纳米及以下的逻辑器件生产中广泛采用的一体化大马士革刻蚀工艺,公司开发的可调节电极间距的CCP刻蚀机PrimoSD-RIE已进入国内领先的逻辑芯片制造客户端,初步电性验证已经通过,正在进行更多的器件功能测试。PrimoSD-RIE也已经进入28纳米以下的研发线,就多项关键刻蚀工艺开展现场研发工作。2)ICP刻蚀设备:公司的ICP刻蚀设备在涵盖逻辑、DRAM、3DNAND、功率和电源管理、以及微电机系统等芯片和器件的50多个客户的生产线上量产,并继续验证更多ICP刻蚀工艺,2024年ICP刻蚀设备在客户端的累计安装数达到1025个反应台。另外,公司根据客户和市场技术发展需求,有序推进更多先进ICP刻蚀技术研发,为推出下一代ICP刻蚀设备做技术储备,以满足新一代的逻辑、DRAM和3DNAND存储等芯片制造对ICP刻蚀的需求。 MOCVD设备市场领先,红黄光LED设备开发顺利:公司用于蓝光照明的PRISMOA7、用于深紫外LED的PRISMOHiT3、用于Mini LED显示的PRISMOUniMax等产品持续服务客户。截止2024年,公司持续保持国际氮化镓基MOCVD设备市场领先地位。其中PRISMOUniMax产品自2021年6月正式发布以来,凭借其高产量、高波长均匀性、高良率等优点,受到下游客户的广泛认可。公司于2023年底付运Micro-LED应用的设备样机Preciomo Udx至国内领先客户开展生产验证。公司启动了应用于红黄光LED的MOCVD设备开发,目前开发较为顺利,实验室初步结果已实现了优良的波长均匀性能。 薄膜沉积产品推向市场,EPI进入客户端量产验证阶段:公司已开发出六款薄膜沉积产品推向市场,中微公司钨系列薄膜沉积产品:CVD(化学气相沉积)钨设备,HAR(高深宽比)钨设备和ALD(原子层沉积)钨设备,可覆盖存储器件所有钨应用;该系列设备均已通过关键存储客户端现场验证,满足先进存储应用中所有金属互联应用(包含高深宽比金属互联应用)及三维存储器件字线应用各项性能指标,并获得客户重复量产订单。同期,公司开发出应用于先进逻辑器件的金属栅系列产品:ALD氮化钛,ALD钛铝,ALD氮化钽产品,已完成多个先进逻辑客户设备验证,可满足先进逻辑客户性能需求的同时,设备的薄膜均一性。公司EPI设备研发团队,通过基础研究和采纳关键客户的技术反馈,已经开发出具有自主知识产权及创新的平台,预处理和外延反应腔,目前公司EPI设备已顺利进入客户端量产验证阶段,以满足客户先进制程中锗硅外延生长工艺的量产需求。 投资建议:公司作为半导体设备国内领先企业,充分受益于半导体国产化。结合公司的订单交付情况,我们略微调整公司盈利预测并新增27年盈利预测,预计2025-2027年公司归母净利润为23.63亿元/30.84亿元/40.59亿元(25/26年原值为25.65亿元/31.60亿元),对应的市盈率分别为50倍、38倍、29倍。公司作为半导体设备平台型企业,薄膜沉
|
|