事件：3月31日，公司发布2022年报，全年实现营收47.4亿元，同比+52.5%；实现归母净利润11.7亿元，同比+15.7%。
　　扣非净利率19.4%，盈利能力大幅上修。受益于内资晶圆厂扩产以及半导体设备国产替代，2022年公司实现全年营收47.4亿元，同比+52.5%，继续实现高速增长；综合毛利率45.74%，同比+2.4pcts；扣非后归母净利润9.2亿元，同比+183%，扣非净利率19.4%，同比+9pcts，随着收入规模扩大，公司规模效应逐渐凸显，盈利能力大幅上修。
　　22新签订单63亿，支撑23业绩继续高增。2022年全球半导体设备支出近1085亿美元，中国大陆及中国台湾地区需求占比合计近45%，半导体设备市场广阔。目前，公司从深耕刻蚀设备逐渐向平台化企业转型，已初步形成“刻蚀设备全覆盖，薄膜沉积设备差异化布局，光学检测设备前瞻性投资布局”的产品矩阵。2022年公司新签订单63.2亿元，同比+53%；期末合同负债22亿元，存货34亿元，其中发出商品15.5亿元，均再创新高；我们预计公司2023年业绩将继续高增。
　　刻蚀设备：大马士革/极高深宽比工艺设备持续突破
　　1、CCP：公司2022年共生产运付475个CCP刻蚀反应腔，同比+59.4%；持续推进逻辑器件一体化大马士革刻蚀工艺和存储器件极高深宽比刻蚀工艺的研发与突破，并取得良好进展，公司第四代XD-RIE刻蚀设备可实现60:1的极高深宽比细孔刻蚀。
　　2、ICP：2022年，公司ICP刻蚀设备在超过20个客户的逻辑、DRAM和3DNAND等器件的产线上进行超过100多个ICP刻蚀工艺的量产，并持续扩展到更多刻蚀应用的验证。其中，截至2022年底，Primo Nanova系列产品在客户端安装腔体数已达297台。
　　MOCVD：新型显示+三代半驱动新增长
　　1、公司持续保持氮化镓基MOCVD设备市场的国际领先地位；
　　2、应用于Mini-LED显示外延片领域的新产品Prismo UniMax自发布以来已累计出货超120腔，针对Micro-LED领域的专用MOCVD设备也正在开发中；
　　3、三代半方面，公司2022年推出用于氮化镓功率器件生产的MOCVD设备Prismo PD5，并取得重复订单。
　　薄膜沉积：布局钨沉积CVD/ALD+TiN沉积ALD+EPI设备
　　1、钨沉积：历时18个月，公司首台CVD钨设备顺利导入客户端进行生产线核准，且在对接更多逻辑/存储客户进行验证；应用于高端存储器件的新型号的CVD钨和ALD钨设备已开始实验室测试和关键客户对接验证工作；
　　2、氮化钛沉积：应用于高端存储和逻辑器件的ALD氮化钛也已进入实验室测试阶段。
　　3、EPI设备：处于样机设计、制造和调试阶段，以满足先进制程中锗硅外延生长工艺的需求。
　　前道检测：34.75%持股睿励仪器，布局前道量检测
　　2022年，公司增资睿励仪器1.08亿元，并以0.43亿元的对价受让睿励老股东转让的部分股权，目前公司持有睿励仪器34.75%的股份。睿励仪器主营光学膜厚测量/光学缺陷检测/硅片厚度及翘曲测量设备等，12寸光学测量设备TFX3000系列已产业化应用在逻辑65/55/40/28nm、64层3DNAND产线上，并正在逻辑14nm、96层3DNAND产线上验证。
　　超99%股权激励覆盖率，考核对标国际TOP5增速。公司最近公告2023年股权激励草案，拟进行550万股限制性股票激励计划，授予对象涉及公司董事、高管、核心技术人员等1390人，员工覆盖率达99.43%；授予价格50元/股，考核年度2023-2026，以考核期累计营收定比2022年营收的累计营收增长率为考核指标，对比全球TOP5半导体设备厂商算数平均值界定归属比例。此次股权激励预计在2023-2027年分别产生摊销成本1.76/1.81/0.98/0.48/0.11亿元。
　　盈利预测：我们预计公司2023年-2025年营业收入62.0/79.2/100.2亿元，归母净利润14.2/17.9/21.8亿元，维持“推荐”评级。
　　风险提示：（1）下游扩产不及预期；（2）产品研发不及预期；（3）贸易争端影响上游供应与客户拓展。