研报下载就选股票报告网
您好,欢迎来到股票分析报告网!登录   忘记密码   注册
>> 国盛证券-中小盘行业新质策略系列之碳化硅:AI赋能打开成长空间,供需共振开启量价齐升-260626
上传日期:   2026/6/26 大小:   489KB
格式:   pdf  共6页 来源:   国盛证券
评级:   增持 作者:   花小伟
下载权限:   无限制-登录即可下载
一、碳化硅:第三代半导体核心材料,全球格局加速重构
  碳化硅(SiC)是第三代化合物半导体的核心代表材料之一,凭借高禁带宽度、高热导率、高击穿电场等特性,可突破传统硅基器件的物理性能极限,适配高压、高温、高功率、高频等应用场景,是支撑新能源革命与AI算力升级的底层核心材料。碳化硅器件产业链分为上游衬底与外延、中游器件与模块、下游应用三大环节,其中衬底是产业重要技术壁垒,据华经产业研究院数据,占器件总制造成本的47%。市场层面,据QYResearch数据,2025年全球碳化硅功率器件市场销售额达406.91亿元,预计2026-2032年CAGR 20.5%,2032年达1479.68亿元。竞争格局上,全球碳化硅器件市场仍由意法半导体、英飞凌等海外巨头主导;国内企业沿产业链各环节加速突围,在衬底制造、器件设计、模块封装等领域持续实现技术突破,国产化率稳步提升,全球产业竞争格局正加速重构。
  二、发展动能研判:供需重塑抬升行业景气,多元需求与技术升级共拓长期空间
  (一)供需格局边际反转,行业步入量价齐升上行周期
  经历2025年的市场出清后,碳化硅行业供需格局已实现实质性改善。价格端,2025年6英寸衬底均价一度从年初4000-4500元/片回落至2000元/片附近,2026年4月以来已出现较大幅度反弹,8英寸产品同步止跌企稳并小幅上涨;中游器件环节,海外功率半导体龙头英飞凌、意法半导体均已发布年内第二轮调价通知,国内厂商同步跟进调价,行业价格周期明确反转。供给端,中小产能持续出清,有效供给向头部集中,当前头部衬底厂商产能利用率已超90%,部分高端规格产品供给偏紧。需求端,传统赛道需求稳步增长,叠加新兴场景放量与终端备库存需求,行业订单能见度显著提升,部分产品交付周期大幅拉长,行业进入价涨量增的景气上行阶段。
  (二)AI算力打开成长新空间,需求结构从单核迈向多核
  新能源仍是行业压舱石,碳化硅功率器件逐步从高端车型向中低端市场渗透,光伏储能、充电桩、轨交等领域需求同步扩容。而AI数据中心正成为行业重要增长极,随着大模型算力需求升级,AI芯片功耗持续攀升,机柜功率密度从百千瓦级向兆瓦级演进,传统供电架构的损耗与散热瓶颈日益凸显,800V高压直流供电架构已成为行业技术共识,驱动数据中心供电体系全面升级。碳化硅凭借高效率、高频、高温与高功率密度的材料特性,能够显著提升服务器电源模块的功率密度与能量转化效率,有效降低数据中心PUE值,是支撑高压直流架构落地的关键器件。此外,碳化硅应用版图持续延伸,加速向AI眼镜光波导、先进封装等新兴领域拓展,下游需求多元化趋势愈发明确。
  (三)大尺寸迭代驱动降本增效,国内头部厂商话语权持续提升
  衬底尺寸升级是碳化硅行业降本增效和扩大应用的核心方向之一,也是产业竞争的战略制高点。8英寸衬底单片芯片产出量约为6英寸的2倍,可带动全产业链单位成本下行,是推动碳化硅从高端选配走向规模化普及的重要抓手。当前行业处于尺寸迭代关键窗口期:6英寸导电型衬底仍是出货主流,但6英寸器件赛道竞争已进入红海;8英寸经济性逐步被验证,成为当前竞争主战场;12英寸代表下一代技术方向,是全球产业话语权的重要争夺点。国内厂商在本轮升级中实现跨越式突破,头部企业已完成8英寸碳化硅衬底规模化量产,带动国内形成从材料到器件的完整8英寸技术生态,同时率先推进12英寸全系列产品技术攻关。长期来看,大尺寸升级将推动衬底成本中枢持续下移,加速多场景替代渗透,同时抬高行业壁垒,推动产能出清与份额向头部集中,国内领先厂商的全球产业话语权将稳步提升。
  三、投资建议
  当前碳化硅行业正处于景气度上行、需求扩容、国产替代加速的多重红利期,具备技术壁垒、产能先发优势与头部客户资源的企业将持续扩大市场份额。建议关注以下优质标的:
  士兰微:国内综合型半导体IDM核心厂商,深耕SiC功率器件领域,6英寸SiC功率器件芯片产线已形成月产1万片MOSFET产能并持续上量,8英寸SiC功率器件芯片产线2025年四季度通线,月产能5000片,预计2026年下半年投产;自主研发的Ⅱ代SiC-MOSFET通过头部厂商认证并批量应用于AI算力中心电源,配套高性能中低压MOSFET同步出货,第Ⅳ代SiC芯片与模块已完成客户评测并批量交付。
  新洁能:国内功率半导体核心厂商,MOSFET、IGBT、SiC等功率半导体产品广泛适配AI服务器及数据中心的电源单元、电压调节模块、HVDC系统、SST等关键环节。公司自主研发的SiCMOSFET可靠性与能效对标欧美竞品,第2代、2.5代SiCMOSFET平台已全面量产,覆盖650V/750V/900V/1200V/1700V电压段;第三代SiCMOSFET产品平台完成工艺开发,相关产品处于可靠性验证阶段。
  天岳先进:全球宽禁带半导体材料行业龙头,据日本富士经济数据,2025年导电型SiC衬底全球市占率达27.6%,位列全球第一;公司已实现8英寸SiC衬底量产,率先完成2英寸至8英寸SiC衬底商业化,并推出12英寸SiC衬底产品,掌握SiC衬底生产环节
 
Copyright © 2005 - 2021 Nxny.com All Rights Reserved 备案号:蜀ICP备15031742号-1