本报告导读：
　　公司刻蚀设备优势明显，同时积极推进MOCVD设备和薄膜沉积设备，订单高速增长，业绩有望持续高增。
　　投资要点：
　　维持“增持”评级，维持目标价164元。公司刻蚀设备加速增长，薄膜沉积设备稳步推进，业绩进入增长快车道，维持其2022-2024年EPS为1.78/2.34/2.97元。考虑ICP双机台优势明显，国内产线渗透加速推进，给予其2023年70倍PE，维持目标价164元。
　　前三季度新签订单超预期达56.4亿元，ICP加速上量。公司公布3Q22财报，单季度实现营收10.71亿元，同比增长45.9%；扣非后归母净利润2.03亿元，同比增长96.7%。期末存货32.4亿元，合同负债19.7亿元，均创历史新高。前三季度新签订单56.4亿元，同比增长60.24%；第三季度新签订单25.8亿元。
　　 CCP新型号持续开发，ICP双台优势显著，公司刻蚀设备业绩高速增长。开发新型CCP，涵盖5nm以下逻辑芯片和200层以上3DNAND存储芯片。开发新型ICP，涵盖7nm及以下的逻辑、17nm及以下的DRAM和3DNAND存储，优化开发双台ICP刻蚀设备。
　　公司为国内稀缺的具备5nm先进制程能力与经验的厂商，领衔半导体自主可控将是众望所归。公司钨薄膜沉积设备目前已通过关键客户的工艺验证，并积极推进设备在客户产线进行量产验证。在薄膜、刻蚀、量测这三类美系设备极强环节，公司在刻蚀领域产品覆盖面全，并陆续开发钨CVD薄膜设备，在整线国产化进程中，具有领衔示范作用。
　　风险提示：下游晶圆产能扩充不及预期；新品研发和产业化不及预期。