事件点评
　　据21ic电子网援引《新华网》7月31日消息，上海微电子正致力于研发28nm浸没式光刻机，预计在2023年年底将国产第一台SSA/800-10W光刻机设备交付市场。
　　一超两强格局稳定，中国浸润式光刻机进口处处受限。根据各公司官网数据统计，2022年ASML、Cannon、Nikon光刻机销量分别为345、176、38台，ASML光刻机销量远超其余两家之和，为Cannon、Nikon合计销量1.6倍。从提供光刻机类别层面分析，ASML为EUV光刻机唯一供应商，ASML与Nikon均可提供ArFi、ArF光刻机。根据日本限制条件，在光刻设备中用于处理晶圆的步进重复式、步进扫描式光刻机设备（光源波长为193nm以上、且光源波长乘以0.25再除以数值孔径得到数值为45及以下）受到管制，故Nikon NSR（Immersion &MP）平台光刻机均包含在内，型号包括NSR-S635E、S631E及S622D均受到管制，中国已无法从日本进口ArFi光刻机。根据荷兰新出口管制条例规定，ASML生产的最先进浸润式DUV系统NXT:2000i及后续NXT:2050i浸润式光刻机将受到限制。
　　各细分领域技术相继研发成功，静待28nm光刻机王者归来。在光刻机产业链中，国内在双工作台、光学系统、物镜系统、光源系统方面均有企业相继研发成功。根据半导体产业纵横报道，在双工件台方面，华卓精科打破ASML在光刻机工件台上技术垄断，成为世界上第二家掌握双工件台核心技术公司；在光源方面，科益虹源可自主研发设计生产高能准分子激光器，填补中国在准分子激光技术领域空白，目前已完成6kHZ、60w主流ArF光刻机光源制造；在光学镜头方面，奥普光学提供镜头可做到90纳米；在光刻机整机生产方面，上海微电子90nm光刻机已获得突破，正在攻关28nm DUV光刻机，仍待交付。
　　新建晶圆厂+产能扩产+下游需求蓬勃发展拉动光刻机需求。①从新建晶圆厂层面分析，根据SEMI数据，中国大陆晶圆厂建厂速度全球第一，预计至2024年底，合计将建立31座大型晶圆厂，且全部为成熟制程。以中芯国际天津T3集成电路生产线项目为例对成熟制程12寸线设备数量需求进行分析，中芯国际天津T3集成电路生产线项目中，将新建12寸晶圆厂房及产线，制程为90nm，新建12寸晶圆规划产能为每月1万片，所需光刻机共8台，其中深紫外沉浸式涂胶曝光机4台，深紫外涂胶曝光机3台，紫外涂胶曝光机1台；②从晶圆产能层面分析，根据SEMI数据，2026年全球300mm晶圆厂产能有望提高至960万片/月；全球半导体制造商预计将从2021年到2025年将200mm晶圆厂产能提高20%，新增13条200mm生产线，产能有望超700万片/月，带动晶圆光刻机市场需求蓬勃发展。③从下游需求层面分析，根据ASML数据，2020年全球制造芯片超过9,530亿颗，到2022年，半导体行业芯片产量超1.11万亿颗，市场规模达6,180亿美元，随着下游应用蓬勃发展，2025年半导体行业产值有望超过7,000亿美元。
　　投资建议：建议关注在光刻机核心技术领域有所突破，产品直接或间接进入ASML、Nikon、Cannon及上海微电子等供应链厂商。如福晶科技、茂莱光学、科益虹源(未上市)、苏大维格等。
　　风险提示：宏观经济形势变化风险致使产业链受到冲击；半导体行业景气度不及预期；光刻机厂商研发进度不及预期。