本报告导读：
　　公司刻蚀设备市占率不断提高，同时积极推进新产品线研发，薄膜沉积设备取得新突破，积极扩张产能，业绩有望持续高增。
　　投资要点：
　　维持“增持”评级，上调目标价194.48元。公司刻蚀设备优势明显，薄膜沉积设备取得新突破，业绩有望持续高增，上调其2023-2025年EPS为2.86/3.19/4.12元（原预测2023-2024年为2.34/2.97）。考虑公司刻蚀和MOCVD设备领先地位，国内产线渗透加速推进，给予其2023年68倍PE，目标价194.48元。
　　业绩持续增长，刻蚀设备市占率持续提升。1H23业绩预告营收25.27亿元，YoY+28.13%，扣非归母净利润5亿-5.5亿元，YoY+13.45%-22.53%。刻蚀设备营收17.22亿元，YoY+32.53%，关键客户市场占有率不断提高。MOCVD设备营收2.99亿元，YoY+24.11%，在新一代Mini-LED生产线上继续保持绝对领先地位。
　　新产品线不断扩充，薄膜沉积设备取得新突破。根据公司官微，公司推出自主研发的12英寸LPCVD设备Preforma Unifle CW，作为公司业务多元化增长的新动能，目前已顺利导入客户端进行生产线核准。此外公司正在开发应用于GaN、SiC功率器件的MOCVD设备，EPI外延设备已进入样机的制造和调试阶段。
　　积极扩张产能，南昌新厂投入使用。根据公司官微，2023年7月7日南昌新厂建成并投入使用。南昌中微主要生产用于LED和功率器件外延的MOCVD设备，目前公司部分产品在细分领域市占率达到全球排名第一，此次新厂落成将进一步提升公司产能。
　　风险提示：下游晶圆产能扩充不及预期；新品研发和产业化不及预期。