点评：  
        1）年报业绩符合预期，IC  设备驱动公司业绩高成长。公司业绩  2.34  亿元，落在前期指引  2.13-2.76  的区间中值附近。公司  18Q4  业绩靓丽，单季度收入同比增长  82%，创下上市以来的最高单季增速。长江存储在  2018  年下半年进入大规模扩线阶段，带动国内  IC  设备产业进入高成长期。从微观角度来看，北方华创中部及东南部收入增长  6  亿余元，长江存储、华虹、中芯等客户订单为主要增长引擎。
        2）毛利率比去年同期增加  3.5%，IC  设备业务规模红利显现。公司  18Q4  毛利率为  35.1%，相比去年同期增加  3.5%。IC  设备行业是高研发投入、高利润率的行业。IC  设备领域全球龙头厂商毛利率在  45%左右，北方华创的盈利能力距离海外的行业领军企业有一定差距。盈利能力差距的核心原因之一是规模效应。随着公司同一品类设备的上量，毛利率有望持续稳步上升。
        3）19-21  年是国内建厂高峰期，公司持续高成长无虞。19-21年是国内晶圆厂建厂潮高峰期，叠加晶圆厂的  IC  设备本土化需求，国产  IC  设备厂商迎来前所未有的黄金发展期。北方华创是国内  IC  设备品类最广的公司，PVD、炉管等设备与国外的差距已经进入大规模成熟应用阶段，刻蚀设备、清洗机的应用面亦在持续扩张。丰富的产品线为北方华创阶梯式的稳步孕育了基础，随着各个细分产品渐次进入成熟阶段，公司具备持续高成长的能力。
        4）北方华创产品线占据刻蚀、薄膜生长两大主赛道，赛道愈来愈宽。总的来说，北方华创的  IC  设备产品可归类为四个大类，一是刻蚀、二是薄膜生产、三是湿制程、四是扩散。在这四个领域，北方华创为客户提供对应的设备及工艺解决方案。
        刻蚀方面，公司在  STI  刻蚀方面已经能够满足客户的需求，应用在  Logic、CIS、Nor  Flash  等芯片的大生产线上。公司在  Al  Pad  PVD  方面优势明显，北方华创的  PVD  设备在  14纳米产线能够完全匹配客户  baseline  的需求。在  28  纳米以下工艺，一般采用PVD沉积TiN做硬掩膜的方式来实现刻蚀。北方华创的刻蚀设备下游应用广泛，在  IC  产线以外，公司积极拓展平板显示、MEMS  传感器、IGBT、Mosfet  等领域的应用。丰富的应用经验持续提升公司刻蚀产品线品质。以  IGBT的刻蚀为例，器件结构存在大量  U  型或  V  型的形貌，产线对刻蚀设备的形貌精确度要求极高，公司产品在这一高难度领域的突破为公司拓展其他应用领域奠定了基础。
        薄膜生长方面，公司产品线适用于逻辑芯片制造、DRAM芯片制造、Nand  Flash  芯片制造三大领域。公司研发的十腔室薄膜沉积平台具有稳定出色的工艺表现，是至今最大的金属化工艺平台，深受客户认可。
        湿制程工艺方面，公司具有单片清洗机及漕式清洗机，在各类清洗工艺环节具有非常出色的性能表现。
        扩散制程工艺方面，公司的氧化扩散设备在可靠性、可用时间具有强劲的竞争力。
        5）再次强调公司产品线在  3D  Nand  趋势下的赛道拓宽逻辑。在摩尔定律及  3D  Nand  两大技术趋势下，公司产品在单条产线的投资额占比不断上升。在  14  纳米及以下的先进制程工艺中，刻蚀、薄膜生长工序数量大幅上升，设备采购占比同比攀升。存储应用方面，随着存储器芯片技术路线从2D  NAND  转到  3D  NAND，刻蚀、薄膜设备在单条产线采购占比从  30%上升到  75%。
        6）晶圆厂建设潮下终端客户对北方华创设备的总需求超3000  亿元