主流存储器芯片Nand  Flash  及DRAM  芯片进入降价周期，存储厂商在2018  四季度明显放缓了资本开支力度。据ASML  的18Q4季报数据，来自存储芯片的光刻机销售额大幅下降，环比去年三季度下降了20%。
        2）中国晶圆厂建设热潮不改，2018  光刻机采购额实现120%以上增长。在2018  年四季度，来自大陆设备采购贡献已经占到了ASML的19%，中国大陆成为全球第二大光刻设备市场。中国大陆地区IC  设备市场保持高景气度，是全球半导体设备销售额增长最快的区域。在2018  年四季度，ASML  在中国大陆地区的光刻机销售额达到15.7  亿欧元，同比增长122%。展望2019  年，中国大陆地区对IC  设备的需求依然非常旺盛。
        3）展望2019  年，全球半导体景气度前低后高。2018  年四季度以来，全球半导体产业景气度略有下滑，预计在2019  年下半年开始全球半导体景气度会有所回升。晶圆制造厂在2019  年的设备采购节奏验证了全球半导体2019  年前低后高的景气度趋势。ASML  对主要晶圆制造厂客户的光刻机交付时间有所调整，将部分2019  上半年交付的产品延后到下半年交付。展望2019  年全年来看，台积电等晶圆代工厂延续了对下一代制程的高强度投资，是全球EUV  设备及ArF  浸没式光刻设备最重要的增长点。
        4）EUV  大势所趋，在2019  继续放量增长。2018  年EUV  光刻机出货量为18  台，预计到2019  年，EUV  光刻机出货量将达到30  台，增长率超过66%。EUV  使用波长为13.5  纳米的光作为光源，上一代产品Arf  浸没式光刻机使用193  纳米光作为光源，EUV  的光源波长大幅缩短，光刻分辨率大幅提升。另一方面，EUV  光刻机的售价极为昂贵，单台EUV  光刻机售价约1.2  亿美金，相比ArF  光刻机增长一倍。目前ASML  是全球唯一一家EUV  光刻机供应商，凭借EUV  技术，在7  纳米以下光刻机市场将占据绝对的垄断地位。随着制程向5  纳米、3  纳米、2  纳米演进，ASML  在光刻机领域的垄断地位及溢价权将不断强化。
        投资建议：中美贸易战背景下，国内晶圆厂建设节奏整体来看并未放缓。光刻机等关键设备的高成长来看，去年四季度反而是IC  设备采购的一个高峰期。我们认为市场对半导体市场的预期过于悲观，个别晶圆厂建设项目的波折对国内IC  设备市场的整体影响有限，短期的冲击不影响IC  设备国产化的大趋势。
        风险提示：
        半导体景气度持续低于预期的风险；
        中美贸易战对全球半导体产业需求的冲击风险；    
        海外厂商对国内企业技术封锁加剧的风险。