▌从能源跨界到半导体设备
　　普达特科技正从一家传统能源与投资公司，蜕变为在半导体湿法清洗设备领域实现高端工艺国产突破的硬科技制造商。公司核心业务正站在国产晶圆厂扩产与半导体设备国产化替代两条历史性趋势的交汇点。
　　▌扩产周期叠加国产替代，双重机遇开启黄金发展期
　　需求端来看，以中芯国际、华虹半导体为代表的Fab厂和以长江存储、长鑫存储为代表的存储厂商正处于扩产周期，叠加先进制程工艺步骤激增，直接拉动清洗设备的需求数量与价值量同步攀升。供给端而言，全球清洗设备市场长期被日本DNS、东京电子、泛林等海外巨头垄断，高温SPM等高端领域国产化率几乎为零；但在复杂的国际环境下，供应链自主可控已成为国家战略与芯片厂商的刚性需求，国产设备厂商正迎来前所未有的验证导入窗口期。中国作为全球最大的半导体设备市场，仅清洗设备细分领域规模已超百亿元且持续增长，为具备技术实力的国产厂商提供了广阔的成长舞台。
　　▌高端工艺国产突破，湿法全矩阵与LPCVD双轮成长
　　公司成功攻克被国际巨头长期垄断的高温硫酸清洗（HTSPM）工艺，高温硫酸清洗工艺是28nm及以下先进制程与3DNAND制造的核心必备环节，其OCTOPUS-HTSPM设备已通过客户严格的马拉松测试，性能指标达到国际主流水平并实现首台交付，标志着公司在高端清洗设备"卡脖子"环节取得关键突破。清洗设备产品布局方面，公司形成三大平台立体化布局的产品矩阵：CUBE平台以领先的工艺能力与高生产力满足功率器件及SiC市场多样化需求并获得重复订单；核心旗舰OCTOPUS平台标配16腔室，最大吞吐量较同类产品提升23%以上，已成功导入国内头部晶圆厂28nm产线；PARALLELLO槽式清洗机进一步完善了具备先进表面污染控制能力的批次式产品线。此外，公司通过控股子公司芯恺半导体战略布局低压化学气相沉积（LPCVD）炉管设备，该类设备主要由日本TEL、KE公司垄断，国产化率极低，目前公司LP-SiN样机已完成客户验收，ALD-SiN样机也已交付客户测试，技术参数对标国际主流。LPCVD炉管设备有望成为公司半导体设备业务的第二增长极，助力公司实现向多产品线高端国产半导体设备商的战略跃迁。
　　▌盈利预测
　　预测公司2026-2028年收入分别为4.47、7.69、14.69亿港元，EPS分别为-0.02、0.01、0.04元，当前股价对应PE分别为-13.11、19.43、7.57倍，考虑到公司半导体设备处于新产品（LPCVD、槽式清洗）推向市场的初期以及公司在半导体高端清洗及薄膜沉积两大“卡脖子”环节的卡位优势；随着设备在晶圆厂的大规模验证并转入批量交付，公司将在2027财年迎来盈利拐点，利润率进入上升通道，预计公司未来净利率有望迎来大幅跃升，我们看好公司的长期成长空间，首次覆盖，给予公司“买入”评级。
　　▌风险提示
　　宏观环境风险；下游晶圆厂扩产进度不及预期；油气价格波动与能源转型风险；光伏行业周期和产能过剩风险。