>> 五矿证券-半导体材料行业系列报告之一:国际形式严峻,国产半导体材料行业如何发展-250626
| 上传日期: |
2025/6/26 |
大小: |
4941KB |
| 格式: |
pdf 共34页 |
来源: |
五矿证券 |
| 评级: |
看好 |
作者: |
何晓敏,金凯笛 |
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此报告为加密报告 |
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半导体技术发展趋势:新材料和新架构的不断更替给半导体材料市场创造新机遇。 逻辑器件:当摩尔定律迈向极限,总会有新的材料和架构出现。随着制程的不断微缩,晶体管中栅极、介质层等尺寸变小,使得栅的控制能力不断下降,28nm节点,氧化铪、氧化锆等HighK介质和TiN等金属栅增强了栅控制力;当制程进一步微缩,FinFET架构应运而生。当前材料上,介电材料与互联金属不断优化,研发2D材料优化器件性能,使用钴等金属来增强互联效率;架构上,台积电开始采用GAAFET量产,持续提升能效比与集成密度。 DRAM:当前内存厂商开始采用铪、锆等High K材料,来增强电荷控制能力;此外,研发铁电材料,开辟3D架构,突破容量瓶颈。 NAND:对于未来3DNAND的扩展,字线(WL)堆叠以及内存单元的特征尺寸缩小将继续成为关键驱动因素。在没有产生颠覆性技术以前,更高的层数是NAND增加内存单元的主要路径。此外,在WL部分,使用Mo代替W,可能会给Mo相关产品带来更多市场空间。 先进封装:摩尔定律迈向极限,人工智能浪潮带来更多算力需求,先进封装需求激增,驱动IC载板、塑封料、底填胶等材料市场扩容。 第三代半导体:新能源车、5G基站等场景催生百亿级增量市场,碳化硅(SiC)/氮化镓(GaN)引领功率与射频半导体革新。 目前国际形势及国家政策下半导体如何发展? 光刻胶、碳化硅、氮化镓、氧化镓等半导体材料被列入“商业管制清单”,然而我国国内部分关键半导体材料国产化率仍然较低,市场格局分散。国家通过政策、基金等方式,坚定支持我国实现半导体产业链的自主可控。 伴随半导体技术发展,新能源、AI等市场需要,国产化率较低的高端光刻胶、掩膜版、先进封装材料、前驱体、三/四代半导体在半导体产业链自主可控中扮演的角色越来越重要,市场空间可观,兼具战略及商业价 风险提示 1、宏观经济恢复不及预期,半导体行业下游需求不及预期; 2、贸易摩擦加剧,半导体行业供应链进一步受限的风险; 3、若半导体行业技术研发和迭代、产品推进不及预期,存在国产替代不及预期的风险; 4、半导体行业竞争加剧,部分企业盈利能力下滑的风险。
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